Вольфрамовый лист 1х150х380 мм ВА в Волгограде

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Долгосрочной эксплуатации вольфрамового листа без деградации способствуют условия глубокого вакуума, инертные газовые среды (аргон, гелий) или водородная атмосфера. Отсутствие кислорода, галогенов и других агрессивных химических реагентов критично для сохранения свойств при высоких температурах.

Лист ВР-27ВП обладает лучшей обрабатываемостью по сравнению с листом ВД. Присутствие 27% рения повышает пластичность и снижает хрупкость, облегчая механическую обработку, включая сверление и фрезерование, минимизируя риск растрескивания.

Преимущества использования листа ВА в качестве катодов заключаются в его высокой температуре плавления, низкой скорости испарения и стабильной термоэлектронной эмиссии при высоких температурах. Это обеспечивает долгий срок службы катодов и стабильную работу вакуумных приборов.

Толщина 0.1 мм значительно повышает гибкость вольфрамового листа по сравнению с 1.5 мм. Меньшая толщина обеспечивает большую податливость материала к изгибам и формовке, что критично для применений, требующих высокой пластичности и малых радиусов изгиба.

Лист ВД толщиной 0.8 мм используется в медицинском оборудовании для эффективного экранирования. Высокая плотность и атомный номер вольфрама обеспечивают поглощение ионизирующего излучения, применяясь в рентгеновских аппаратах и системах лучевой терапии для защиты персонала и пациентов.

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.