Танталовый лист 0,35х50х100 мм ТВЧ в Волгограде

Для создания сложных геометрических форм из танталового листа применимы методы холодной формовки, такие как глубокая вытяжка, гибка, штамповка, ротационная вытяжка и гидроформовка. Высокая пластичность тантала марки ТВЧ позволяет выполнять многоступенчатую формовку без промежуточного отжига.

Плотность танталового листа марки ТВЧ составляет приблизительно 16.65 г/см³. Этот параметр является важной удельной характеристикой материала и используется для расчетов массы изделий и конструкций.

Оба типа танталового листа, ТВЧ и ТаВ, подвержены коррозии в расплавленных щелочах, особенно при высоких температурах. Тантал вступает в реакцию с щелочами, образуя танталаты. Различия в устойчивости между ТВЧ и ТаВ будут незначительными и зависят от конкретного состава и температуры щелочи.

Танталовый лист марки ТВ-5, содержащий 5% вольфрама, дает преимущества при изготовлении высокоточных деталей благодаря своей повышенной прочности и твердости по сравнению с чистым танталом. Это обеспечивает лучшую стабильность размеров после механической обработки и формовки, минимизируя деформации.

Различные методы очистки танталового листа (химическое травление, ультразвуковая очистка) перед использованием критически важны для его дальнейших свойств. Чистая поверхность обеспечивает лучшую адгезию покрытий, оптимальную пассивацию и минимизирует риск загрязнения рабочих сред, что влияет на коррозионную стойкость и долговечность.

Различные виды отжига влияют на ковкость и пластичность танталового листа марки ТВЧ. Рекристаллизационный отжиг при высоких температурах (например, 1000-1300°C в вакууме) полностью снимает наклеп, восстанавливает пластичность и ковкость, делая материал пригодным для дальнейшей холодной обработки.

Воздействие высоких энергий, например, ионная имплантация, изменяет поверхностный слой танталового листа, формируя легированный слой. Это может улучшить его твердость, износостойкость, коррозионную стойкость или адгезию последующих покрытий за счет изменения химического состава и структуры поверхности.